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【芯源微發布新一代浸沒式高產能涂膠顯影機 預計明年可實現批量訂單】《科創板日報》17日訊，芯源微今日在公司成立二十周年之際舉行新品發布會，宣布推出新一代浸沒式高產能涂膠顯影機FT(III)300。作為芯源微自主開發的第三代機型，浸沒式高產能涂膠顯影機具有高產能、高工藝能力、高潔凈度、高擴展性和易維護性等優勢。目前，該款機型已通過客戶端驗證，達到客戶量產要求，成功打破國外壟斷，填補國內空白。新品發布會以線上形式舉行，了解到，該機型可在復雜光刻工藝下實現300片以上產能，同時可匹配所有主流光刻機聯機量產，通過選配覆蓋國內28nm及以上所有工藝節點、覆蓋offline Barc、KrF、ArF、浸沒式等光刻工藝。芯源微董事長宗潤福表示，該機型下游意向客戶覆蓋國內邏輯、存儲、功率器件等多家國內知名廠商，預計明年可實現批量訂單。